中国科学技术大学教授研究了国内光刻机器：5NM光刻机器涉及许多事情，而中国目前无法做到。他们说的是骄傲。 最近，中国科学技术大学物理学教授朱雅（Zhu Shiyao）提到了有关家庭光刻机器的一些事情，这似乎很复杂。他说，只有荷兰ASML才能处理世界上光刻机器的5NM过程，但美国或中国也无法做到这一点。可以做的可能是自豪的。光刻的机器不仅是一种设备，还像一个巨大的高科技堆难题。每个小部分应该特别好，应该完美地组合。有多容易？朱教授还提到，最先进的是国内最先进的是193nm波长的氟化物光刻机器，其分辨率接近65nm。这是一种干燥的DUV技术，可以完成40nm芯片的过程s。有些人可能会发现这项技术觉得这是几年前的奇怪，对吗？是的，这是真的。但是，这里涉及多少技术积累并不是普通人能想到的。我记得我年轻的时候，我在家里有一台黑白电视，但最终我将其变色并兴奋。当LCD电视出来时，我觉得电视的颜色完全没有时间。一切似乎都像它，并且由图层形成了图层，所有这些都使用前基础构建。扩展全文 EUV技术（极端紫外线）更难发挥作用。这是一项长度长度的技术长度，可以暴露出来，并有光泽的TOA 7nm芯片工艺，其步骤高于193nm。但是，为了实现这种设备，需要解决许多问题，因为镜头必须由德国蔡司（Zeiss）给出，这是全球公认的不变的大型设备。 没有蔡司镜头，即使美国自己做，也可能不符合要求，更不用说中国没有完全支持该连锁店。朱教授说了这一点，似乎没有错。 例如，光刻计算机本身不仅是一个重要的设备，而且只是指向整个芯片制造过程的链接 - 将会有重要的过程影响收益率将近30％，例如清洁过量的蚀刻机。在组合完整组合之后，必须染色每个步骤，否则会出现性能和效率问题。 Yin Ziyoo指出，中国已经在蚀刻机上取得了一些成就，据报道，中国是向TSMC等巨型公司提供的。但是，他还说，低于5nm的过程仅依靠特定的设备毫无意义，并且需要全面的协调来打破关键点。真的就像厨师烹饪。它需要各个方面的热量，调味和成分，否则其同伴可能是产品失败。 对于国内光刻机器，仍然需要忽略很多东西，例如EUV光源和各种元素很难。此外，要变得无助，即使我们几乎没有收集所有零件，仍然存在一个低效率的问题 - 如果安装了机器，则毫无用处知道该收益率不符合标准。 中国科学技术大学的教授有点平静。他并没有直接否认未来的发展，但仅显示了这一阶段的许多人。这使我想起，有时对缺点的认罪也是一种智慧，比盲人夸大。 当然，许多网民也问了他的观点，也许认为他太认真了，这在某种程度上被民族自信毁了。但是，经过仔细的考虑，他所说的话指出了许多实际困难，并且不再加剧。如果一个人真的忽略了这些问题休闲，这不负责任。 通常，中国必须为半导体场而不是肉质印刷机做出，但也有更大的平台构建和才能。否则，即使将来实际上建造了EUV光刻机器，由于其他缺点，它们也可以继续限制。因此，这样的主要项目可能并不紧急，因此它只能慢慢发光。 但是，我认为这件事并不完全悲观。当某些区域开始破裂时，它会触发链效应。当时，它可能会发展一天的一天，包括增加国内筹码。回到Sohu看看更多